Hydratační tonální krém Enough Collagen Moisture Foundation SPF 15 (13 Light Beige)

  • Tonální základ s kolagenem umožňuje vytvořit přirozený tón bez zatížení a pocitu masky na obličeji
  • Pokožku hydratuje, vyživuje, dodává jí pružnost
  • Ochranný sluneční faktor ve složení spolehlivě chrání pokožku před negativními účinky ultrafialových paprsků
  • Díky přírodnímu rostlinnému složení je báze pod make-up vhodná pro všechny typy pleti včetně citlivé
  • Kolagen hydratuje a vyživuje pokožku v nejhlubších vrstvách epidermis
  • Extrakt z Centella Asiatica - stimuluje syntézu kolagenu a elastinu, působí protizánětlivě, zlepšuje mikrocirkulaci a posiluje stěny cév
  • Kyselina hyaluronová - hydratuje, vyživuje a vyhlazuje pokožku, zlepšuje pleť, dodává zářivost
standardní cena: 299 Kč –70 % 89 Kč
Dostupnost: Skladem (2 ks)
Možnosti doručení
Kód: 0111
Hydratační tonální krém Enough Collagen Moisture Foundation SPF 15 (13 Light Beige)
Enough Collagen Moisture Foundation SPF 15
Akce
299 Kč –70 %
Dárek
Dárek
ke každé objednávce nad 800,-Kč
Kvalitní kosmetika z Koreje
Kvalitní kosmetika z Koreje
doprava zdarma
nad 1500,-Kč
Rychlé dodání
Rychlé dodání
na jakékoliv místo

Detailní popis produktu

Použití:

Přiměřené množství krému jemně rozetřete na tvář. 

Složeni: 

Water, Cyclohexasiloxane, Cyclotetrasiloxane, Titanium Dioxide, Caprylic / capric triglyceride, glycerin, butyleneglycol, cetyl PEG / PPG 101 dimethicone, sorbitan sesquioleate, dimethicone\Vinyl dimethicone crosspolymer, dimethicone, ozokerite,  sodium chloride, stearalkonium hector zolite, magnesium aluminum silicate, yellow iron oxide,  phenoxyethanol, red iron oxide,  black iron oxide, fragrance,  triethoxycaprylyl Silane, water soluble collagen 0.1%, betaine,  betaglucan, Centella asiatica leaf extract, sodium hyaluronate

Doplňkové parametry

Kategorie: Tvář
Hmotnost: 0.16 kg
5
1x
4
0x
3
0x
2
0x
1
0x
Nevyplňujte toto pole:
5
L Avatar autora | 17.04.2023
Skvělý produkt, za mně lepší než bb od Missha. Bleskové dodání, naprostá spokojenost s eshopem

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: